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以锆粉为核心的高端金属粉体组合
每个型号均提供可复测的关键参数与完整检测报告，支持粒度与氧含量等级定制。
稀有金属粉体钽粉 Ta-P
高纯度稀有金属粉末，钽含量 ≥99.9%，支持定制化粒度规格，服务于半导体、超导与医疗器械等战略新兴产业。
- 钽含量
- ≥99.9%
稀有金属粉体铌粉 Nb-P
高纯度稀有金属粉末，铌含量 ≥99.8%，支持定制化粒度规格，服务于半导体、超导与医疗器械等战略新兴产业。
- 铌含量
- ≥99.8%
稀有金属粉体铪粉 Hf-P
高纯度稀有金属粉末，铪含量 ≥99.9%，支持定制化粒度规格，面向半导体、超导与医疗器械等战略新兴产业。
- 铪含量
- ≥99.9%
钛基粉体超细锆钛粉
D50 ≤3μm 超细粒度，合金成分精确控制、低氧低杂质含量，适用于精密陶瓷、电子元器件与特种合金等领域。
- 粒度 D50
- ≤3μm
锆基粉体超细锆粉 Zr-UF3
D50 ≤3μm 超细中值粒径控制，粒径分布集中、粉体活性高，适用于精密陶瓷、电子元器件与特种合金等场景。
- 粒度 D50
- ≤3μm
锆基粉体超低氧锆粉 Zr-O1000
氧含量 ≤1000ppm，球形度高、流动性好，粒度分布均匀可控；面向航空航天、军工、核工业与 3D 打印等高端领域。
- 氧含量
- ≤1000ppm
- 粒度 D50
- 3–15μm